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High-k gate dielectrics for CMOS technology
Wiley-VCH 2012
Dielectrics Metal oxide semiconductors, Complementary

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Título:
High-k gate dielectrics for CMOS technology [ Recurso electrónico] / edited by Gang He and Zhaoqi Sun
Editorial:
Weinheim : Wiley-VCH, 2012
Descripción física:
xxxi, 558 p. : ill. (some col.)
Mención de serie:
Ebook Central
Bibliografía:
Includes bibliographical references and index
Contenido:
pt. 1. Scaling and challenging of Si-based CMOS -- pt. 2. High-k deposition and materials characterization -- pt. 3. Challenge in interface engineering and electrode -- pt. 4. Development in non-Si-based CMOS technology -- pt. 5. High-k Application in novel devices -- pt. 6. Challenge and directions
Detalles del sistema:
Modo de acceso: World Wide Web
Fuente de adquisición directa:
Ebook Central
ISBN:
9783527330324
9783527646371
Autores:

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